Статьи автора

Сосуществование ортогональных токовых структур и развитие разнотипных вейбелевских неустойчивостей в соседствующих областях переходного слоя плазмы с потоком горячих электронов

Номер выпуска 1 от 01.01.2023

С использованием численного моделирования методом частиц в ячейках обнаружена возможность формирования и длительного сосуществования ортогональных токовых структур в соседствующих слоях неоднородной холодной плазмы, пронизываемой потоком горячих электронов. Показано, что образование подобных структур имеет место в широкой области параметров задачи о бесстолкновительном разлете высокоэнергичных электронов из плотной плазмы в разреженную. Эти структуры обусловлены развитием вейбелевских неустойчивостей двух разных типов, связанных с качественно различными анизотропными распределениями электронов по скоростям. С целью наблюдения предсказанного явления предложены эксперименты с лазерной плазмой, создаваемой абляцией мишени при квазицилиндрической фокусировке мощного пучка излучения фемтосекундного лазера.

57 0